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商业秘密侵权行为的构成 1、侵犯商业秘密行为的主体较复杂，可以是经营者，也可以是非经营者，还包括商业秘密权利人的雇员等。2、行为人在主观上有明显的故意和过失，而且在通常情况下是故意实施侵权行为的。3、行为人客观上实施了法律所禁止的侵犯商业秘密的行为，包括：1）非法获取权利人的商业秘密；2）非法处分其违法获得的商业秘密；3）违法处分其通过合法渠道知悉的权利人的商业秘密；4）第三人因过错从侵犯商业秘密行为人处获取、使用、或者披露权利人的商业秘密
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企业商业秘密保护措施 1、应建立和完善企业商业秘密保护制度：商业秘密保护制度的建立，是制定有效保护措施的基本前提和指导。一般来说，企业商业秘密保护制度应包括以下内容：1）企业商业秘密的定义和范围，保护的目的；2）商业秘密保护义务人的范围；3）企业内部商业秘密管理机构及商业秘密的认定程序；4）商业秘密具体保护措施；5）商业秘密保护工作中员工的权利和义务；6）商业秘密保护工作中的奖惩办法。
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商业秘密泄露的主要途径 企业商业秘密泄露的主要途径：1、人才流动泄露商业秘密；2、兼职工作泄露商业秘密；3、离退休员工被其他单位聘用泄露企业商业秘密；4、保密观念淡薄泄露商业秘密；5、企业自身经验介绍，接待来访等泄露商业秘密；6、发表学术论文，泄露商业秘密；7、企业职工为私利或私愤泄露商业秘密；8、发生意外事故
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集成电路布图设计专有权的保护期限 对于集成电路布图设计专有权的保护期，《关于集成电路的知识产权条约》中规定至少是8年，而《与贸易有关的知识产权协定》中规定为10年。我国《集成电路布图设计保护条例》规定，集成电路布图设计专有权的保护期为１０年，自集成电路布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算。如集成电路布图设计登记申请之日与在世界任何地方首次投入商业利用之日不一致的，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，集成电路
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受保护的集成电路布图设计本身应具备的条件 按照《集成电路布图设计保护条例》规定，受保护的集成电路布图设计应当具有独创性，即该集成电路布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该集成电路布图设计在集成电路布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的集成电路布图设计，其组合作为整体应当具有独创性。独创性要符合两个条件：（1）该集成电路布图设计是创作者本人自己创作的，而不是模仿或抄袭他人的布图设计而完成的；（2）在创作
